儀器設備
脈衝雷射蒸鍍系統
磁光法拉第量測系統
低溫光致螢光量測系統
電性量測系統
高溫製程系統
實驗室基礎設施
脈衝雷射蒸鍍系統
脈衝雷射蒸鍍系統
 | 脈衝雷射蒸鍍法(pulsed-laser deposition, PLD) 利用高功率的雷射光經過聚焦後照射在靶材表面，使靶材瞬間接收大量能量轉變為電漿態，並讓噴出的靶材材料沉積在基板上成為鍍膜的技術。 不鏽鋼製高真空腔體是委託國家實驗研究院儀器科技研究中心設計及製作，背景壓力可以維持在2 x 10-7 mbar以下。 |
 | LOTIS TII 公司的 Nd:YAG 脈衝固態雷射 利用頻率 10 Hz 的閃光燈脈衝激發 Nd:YAG 晶體，產生脈衝寬度 16-18 ns，波長為 1064 nm的紅外光雷射，並利用四倍頻晶體得到波長 266nm 的紫外光雷射 |
磁光法拉第量測系統
磁光法拉第量測系統
 | 法拉第磁光是透過沿著外加磁場的光經由不同介質中透射後，使左、右旋圓在介質行進速度不同， 形成光的相位差。最終得到穿透介質後的光偏折而產生的旋轉現象 |
 | 本實驗是以氙燈為光源，其量測波長是從 300 至 700 nm |
低溫光致螢光量測系統
低溫光致螢光量測系統
 | 50cm光譜儀搭配光電倍增管與銦鎵砷偵測器、訊號截取系統、遮光器，以及鎖相放大器 |
 | 光激螢光光譜系統的光源是HeCd雷射，波長為325nm |
 | 藉由渦輪幫浦及氦氣循環系統，可將樣品溫度降至20K，並可進行變溫自動量測 |
電性量測系統
偏振光磁電傳輸特性量測系統
 | 本量測系統主要量測電流電壓特性，並在常見的電性量測系統上設置了電磁鐵及雷射源，提供外加磁場及圓偏振光，除了進行基本的霍爾效應量測及范德堡法量測外，也可以進行電阻轉換量測、光電阻量測及偏振光誘發的磁阻量測 |
 | 電流供應器(keithley6200) 多功能電表(keithley2000) |
高溫製程系統
高溫製程系統
 | 高溫爐管 |
 | 高溫爐管(與本系邱顯智老師合作) |
 | 快速熱退火系統(與本系徐鏞元老師合作) 本系統利用高功率紅外線雷射作為熱源，可以快速將樣品升至 500℃ ，在退火過程中可以維持真空並控制氬氣的流量 |
實驗室基礎設施
實驗室基礎設施
 | 超純水製造機 |
 | 晶體研磨拋光機(與本系林文欽教授合作) |
 | 多功能型小數四位天平 ATX 124 (秤重量：120g 精密度：0.1mg 線性：±0.2mg) ATX 224 (秤重量：220g 精密度：0.1mg 線性：±0.2mg) |
 | 超音波清洗機 |
 | 顯微鏡 |